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J-GLOBAL ID:200903005774380350

マイクロエレクトロニクス産業用の高純度化学薬品の製造方法および製造装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998099629
Publication number (International publication number):1999047584
Application date: Apr. 10, 1998
Publication date: Feb. 23, 1999
Summary:
【要約】【課題】 従来の欠点を避けた高純度化学薬品の製造方法を提供する。【解決手段】 マイクロエレクトロニクス産業用に用いられ得る高純度液体化学薬品の製造方法である。初期的に脱イオンされた超純水の溶液に対し向流として2つの精製カラムを通過させることによって、化学薬品ガスを十分に精製することで開始され、前記ガスは高い純度、特に金属成分の低い含有量で第2のカラムを離れ、前記溶液は徐々に不純物を含有すること;精製されたガスは、次いで充填カラム内で液体に溶解し、この液体はカラムの底部で集められ、前記充填カラム内には精製された化学薬品ガスでリッチとされる液体が連続的に再循環されること;及び高純度化学薬品は、溶解したガスの濃度が所望の値に達すると、次いで分配されることを特徴とする。
Claim (excerpt):
マイクロエレクトロニクス産業用の高純度液体化学薬品の製造方法であって、初期的に脱イオンされた超純水の溶液に対し向流として2つの精製カラムを通過させることによって、化学薬品ガスを十分に精製することで開始され、前記ガスは高い純度、特に金属成分の低い含有量で第2のカラムを離れ、前記溶液は徐々に不純物を含有すること、精製されたガスは、次いで充填カラム内で液体に溶解し、この液体はカラムの底部で集められ、前記充填カラム内には精製された化学薬品ガスでリッチとされる液体が連続的に再循環されること、および高純度化学薬品は、溶解したガスの濃度が所望の値に達すると、次いで分配されることを特徴とする方法。
IPC (4):
B01J 19/00 ,  B01D 53/14 ,  C01B 7/07 ,  C01B 7/19
FI (4):
B01J 19/00 Z ,  B01D 53/14 C ,  C01B 7/07 B ,  C01B 7/19 C

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