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J-GLOBAL ID：200903005776110520

樹脂混合物を含むフォトレジスト組成物

Inventor：
チャン-バイ・スー

About チャン-バイ・スー

, 
鈴木 泰弘

About 鈴木 泰弘


Applicant, Patent owner：
ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

About ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.


Agent (2)： 千田 稔 ,  橋本 幸治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006009643
Publication number (International publication number)：2006201778
Application date： Jan. 18, 2006
Publication date： Aug. 03, 2006
Summary：
【課題】新規なフォトレジスト組成物の提供【解決手段】光活性成分並びに少なくとも2種の異なる樹脂、即ち、i)ヘテロ置換基(特に、ヒドロキシ又はチオ)を有する炭素環式アリール単位を含む第一樹脂及びii)第二架橋樹脂の混合物を含有する、新規なポジ型フォトレジスト組成物が提供される。本発明の好ましいフォトレジストは、短波長、例えば200nm未満、特に193nmで画像形成することができる。【選択図】図1A
Claim (excerpt)：
1)光活性成分、並びに 2)i)ヘテロ置換炭素環式アリール基を含む第一樹脂、及び ii)第一樹脂とは異なる、架橋した基を含む第二樹脂 を含む樹脂成分 を含む、ポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (2)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (2)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (13)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • 米国特許出願公開第2002/0012869号明細書
  • 米国特許出願公開第2004/0038150号明細書
  • 米国特許出願公開第2004/0053511号明細書
Cited by examiner (5)
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