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J-GLOBAL ID:200903005795890235

露光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993084764
Publication number (International publication number):1994302501
Application date: Apr. 12, 1993
Publication date: Oct. 28, 1994
Summary:
【要約】【目的】 画面合成を行う露光装置において、レチクル自体に減光手段を設けることなく、感光基板上の露光領域内で理想的な減光領域を形成することを可能とする。【構成】 光源1からの光束をレチクル10に照射する照明光学系内の、レチクルと共役な位置に配置したレチクルブラインドの設定を変更する駆動装置18A,18Bと、シャッター3の開閉に同期して駆動装置18A,18Bを駆動する制御装置19とを備える。制御装置19は、感光基板12の露光中に、像を重ね合わせるべき範囲内でレチクルブラインド7を移動させるように駆動装置18A,18Bを駆動する。
Claim (excerpt):
光源からの光束をレチクルに照射する照明光学系と、前記レチクルとほぼ共役な前記照明光学系内の位置に配置され、前記光束によって照明される前記レチクル上の領域を任意に設定可能とする照明領域設定手段と、前記レチクル上のパターンの像を感光基板上に露光する露光手段とを備え、前記感光基板上の異なる領域に対して前記パターンの像の一部どうしがそれぞれ重複するように前記像を形成しながら前記露光を行う露光装置において、前記露光によって与えられる、前記像の一部の光量が前記露光中にほぼ連続的に変化するように前記照明領域設定手段を制御する制御手段を備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (2):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (2):
H01L 21/30 311 S ,  H01L 21/30 311 L
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
  • 特開平4-311025
  • 特開昭63-160331
  • 特開昭64-056440
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Cited by examiner (6)
  • 特開平4-311025
  • 特開昭63-160331
  • 特開昭64-056440
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