Pat

J-GLOBAL ID：200903005828414345

走査型露光装置

Inventor： 浜田 智秀 ,  白数 廣 ,  佐伯 和明
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994073097
Publication number (International publication number)：1995283115
Application date： Apr. 12, 1994
Publication date： Oct. 27, 1995
Summary：

【要約】【目的】 走査用ステージの案内精度に依存することなく、且つ外乱に影響されることなく安定に、プレート上に高い解像度及び精度でマスクパターンを露光する。【構成】 マスク2上のパターンを等倍且つ正立正像対応の投影光学系3a〜3eを介してプレート5上に露光し、マスク2及びプレート5をキャリッジ6で一体的に投影光学系3a〜3eに対して走査する。差動干渉計13A,14A,15Aによりキャリッジ6のピッチング量を検出し、そのピッチング量に応じて微動アクチュエータ7〜9を介してマスク2の位置を微調整する。

Claim (excerpt)：

マスク上のパターンを所定形状の照明領域で照明する照明光学系と、前記マスク上のパターンを通過した光束を実質的に等倍且つ正立正像で感光基板上に投影する投影光学系と、前記マスクを載置し水平方向に移動自在なマスクステージと前記感光基板を載置し水平方向に移動自在な感光基板ステージとを一体的に保持し、前記照明領域に対して所定の走査方向に移動するフレームと、を備え、前記マスク上のパターンを逐次前記感光基板上に露光する走査型露光装置において、前記投影光学系の前記フレームに対する相対的な傾きを検出する傾斜状態検出手段と、該傾斜状態検出手段の検出結果に基づいて、前記マスクステージと前記感光基板ステージとの少なくとも一方の位置を調整する調整手段と、を有することを特徴とする走査型露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521