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J-GLOBAL ID：200903005871820918

ネガ型電子線又はX線レジスト組成物

Inventor： 児玉 邦彦 ,  嶋田 和人
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999121430
Publication number (International publication number)：2000310857
Application date： Apr. 28, 1999
Publication date： Nov. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 高感度、高解像力であり、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかも微細パターン形成時にも膜はがれがなく、高い密着性を示すネガ型電子線又はX線用レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、分子内にヘテロ原子を含む官能基で置換された芳香族炭化水素化合物または複素環化合物、及びカルボニル化合物およびその等価体から選択される化合物を含有するネガ型電子線又はX線レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、(B)分子内にヘテロ原子を含む官能基で置換された芳香族炭化水素化合物または複素環化合物、及び(C)カルボニル化合物およびその等価体から選択される化合物を含有することを特徴とするネガ型電子線又はX線レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (10)：

2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025CB52 ,  2H025CC20