Pat

J-GLOBAL ID：200903005881017919

レーザプラズマX線源用ターゲツト

Inventor： 藤崎 久雄 ,  近藤 洋行 ,  中桐 伸行
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991284698
Publication number (International publication number)：1993119199
Application date： Oct. 30, 1991
Publication date： May. 18, 1993
Summary：

【要約】【目的】 レーザプラズマX線源において、レーザ光の照射によって生成されたプラズマから放出されるイオンおよびデブリの量を抑える。また、ターゲットの交換作業の簡易化をはかる。【構成】 高融点材1に、集光されるレーザ光のスポット径よりも小さい穴を多数個設けた。そして、それぞれの穴に同一のあるいは何種類かの異なるターゲット材2を埋め込んだ。

Claim (excerpt)：

高融点材に多数個あけたレーザ集光径より小さい穴のそれぞれに、同一のあるいは異なる何種類かのターゲット材が埋め込まれていることを特徴とするレーザプラズマX線源用ターゲット。

IPC (3)：

G21K 5/08 ,  H05G 2/00 ,  H05H 1/24