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J-GLOBAL ID：200903005930995190

導波管およびカーボン系薄膜生成装置

Inventor： 伊藤 孝治 ,  細貝 いずみ
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 則近 憲佑
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993321950
Publication number (International publication number)：1995176916
Application date： Dec. 21, 1993
Publication date： Jul. 14, 1995
Summary：

【要約】【目的】マルチパクタ放電が起きにくい、大出力マイクロ波伝送・放射に適した導波管を提供すること。【構成】電磁波を伝送し、放射する導波管7において、上記電磁波を伝搬する内部に水素11aおよび気体の炭素化合物11bのガスプラズマを作り、内面に化学的気相成長法でカーボン系薄膜13を形成したものである。

Claim (excerpt)：

電磁波を伝送し、放射する導波管において、上記電磁波を伝搬する内部に水素および気体の炭素化合物のガスプラズマを作り、内面に化学的気相成長法でカーボン系薄膜を形成したことを特徴とする導波管。

IPC (5)：

H01P 3/12 ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/50 ,  G21B 1/00 ,  H01P 11/00