Pat
J-GLOBAL ID：200903005934772544
パターンの測長方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991268069
Publication number (International publication number)：1993109850
Application date： Oct. 17, 1991
Publication date： Apr. 30, 1993
Summary：
【要約】【目的】 転写後のパターンの測長方法に関し, マスク上の寸法が転写後も保存される測長用パターンを形成し,正しい測長を可能とすることを目的とする。【構成】 1)隣接する矩形パターンが相互に平行に配列され且つ配列方向に対し垂直方向にずらして形成された測長用マスクパターンを有するマスクパターンを転写して形成した転写パターンの寸法を,転写された該測長用マスクパターンの配列ピッチに対する比を測定して求める,2)前記隣接する矩形パターンの端部が相互に接続されている,3)前記転写をエッチングで行う場合,前記測長用マスクパターン寸法が設計値にエッチングシフト量を付加した値である,4)前記転写をエッチングで行う場合,前記測長用マスクパターン寸法が設計値よりずらした値に設定され,前記転写パターンの隣接する矩形パターンの間隔より前記エッチングシフト量を求める過程を有するように構成する。
Claim (excerpt)：
隣接する矩形パターンが相互に平行に配列され且つ配列方向に対し垂直方向にずらして形成された測長用マスクパターンを有するマスクパターンを転写して形成した転写パターンの寸法を,転写された該測長用マスクパターンの配列ピッチを基準寸法とし,該基準寸法に対する相対値を測定してこれに該基準寸法を掛け合わせて求めることを特徴とするパターンの測長方法。
IPC (3)：
H01L 21/66
, G02B 11/26
, H01L 21/027
