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J-GLOBAL ID：200903005983159360

化粧品基材

Inventor： 中島 徹 ,  渡辺 美広 ,  坂 直子
Applicant, Patent owner： 日澱化學株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993355303
Publication number (International publication number)：1995173029
Application date： Dec. 17, 1993
Publication date： Jul. 11, 1995
Summary：

【要約】【構成】 窒素含有率0.2〜3重量%で、30%水溶液の30°C粘度が3〜500cpsである低粘度カチオン化ガラクトマンナンからなる化粧品基材。【効果】 本発明の低粘度カチオン化ガラクトマンナンを用いた化粧品は、良好な使用感、仕上感を与える。

Claim (excerpt)：

ガラクトマンナンのヒドロキシル基の一部が下記化1の一般式(I)で示される残基で置換された構造を有し、かつ窒素含有率が0.2〜3重量%で30%水溶液の30°C粘度が3〜500cpsである低粘度カチオン化ガラクトマンナンからなる化粧品基材、【化1】

IPC (3)：

A61K 7/00 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/48