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J-GLOBAL ID：200903005989134490

減圧処理装置

Inventor： 出口 洋一
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 佐々木 聖孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992222063
Publication number (International publication number)：1994053304
Application date： Jul. 29, 1992
Publication date： Feb. 25, 1994
Summary：

【要約】[目的]減圧処理装置に併設されるロードロック室内での被処理体へのパーティクルの付着を防止するとともに、被処理体搬機構の簡易化をはかる。[構成]処理室10に併設された第1および第2のロードロック室12,14の室内には、ウエハ待機用のウエハ載置台64,68とウエハ受け渡し用の支持ピン66,70が設けられる。処理室10にゲートバルブ26を介して連結された搬送アーム設置室20内に、搬送アーム76が設置される。この搬送アーム76は、伸縮/回転/上下移動の自在な搬送アームであって、処理室10を通って第1、第2のロードロック室12,14内のウエハ載置台64,68まで伸長できるように構成されており、搬送制御部による制御の下で、処理室10と第1、第2のロードロック室12,14との間で半導体ウエハWの搬送を行う。

Claim (excerpt)：

減圧下で被処理体に対して所定の処理を行う処理室と、第1の開閉装置を介して前記処理室に連結され、かつ、第2の開閉装置を介して大気と連通可能なロードロック室と、第3の開閉装置を介して前記処理室に連結され、かつ、前記処理室と前記ロードロック室との間で前記被処理体の搬送を行うための搬送手段を減圧下で設置してなる搬送手段設置室と、を有することを特徴とする減圧処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/302