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J-GLOBAL ID：200903006006490399

露光装置及びその使用方法、露光方法、並びにマスクの製造方法

Inventor： 池田 正俊
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 立石 篤司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998188322
Publication number (International publication number)：2000012453
Application date： Jun. 18, 1998
Publication date： Jan. 14, 2000
Summary：

【要約】【課題】 露光装置本体の小型軽量化及びフットプリントの低減を実現する。【解決手段】 マスクRを下方から照明する照明系14と、マスクRを投影光学系PLの下方で水平に保持するマスクステージRSTと、投影光学系PLの上方で基板Wを水平に保持して2次元移動する基板ステージWSTとを備える。この場合、照明系14は、マスクRを下方から照明するので、マスクステージRST、投影光学系PL、及び基板ステージ等を含む露光装置本体12とは分離して配置することが可能になる。従って、従来のように露光装置本体に照明光学系が含まれない分、露光装置本体の小型・軽量化及びフットプリントの低減が可能である。

Claim (excerpt)：

マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して基板に転写する露光装置であって、前記マスクを下方から照明する照明系と;前記マスクを前記投影光学系の下方で水平に保持するマスクステージと;前記投影光学系の上方で前記基板を水平に保持して2次元移動する基板ステージとを備える露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 F ,  H01L 21/30 515 G

F-Term (5)：

5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CB21 ,  5F046DA04 ,  5F046DA12