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J-GLOBAL ID:200903006019118332
ポリアクリロニトリル系炭素化体の製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
林 恒徳 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000354636
Publication number (International publication number):2002160912
Application date: Nov. 21, 2000
Publication date: Jun. 04, 2002
Summary:
【要約】【課題】 効率的にアクリロニトリル樹脂の炭素化体を製造する方法を提供する。【解決手段】 ポリアクリロニトリル樹脂をヨウ素ガスと酸素とを含むガスと接触させ、ついで焼成する。
Claim (excerpt):
ポリアクリロニトリル樹脂をヨウ素ガスと酸素とを含むガスと接触せしめ不炎化体とした後、300〜3000°Cの不活性ガスの雰囲気内で焼成することを特徴とするポリアクリロニトリル系炭素化体の製造方法。
IPC (2):
C01B 31/02 101
, D01F 9/22
FI (2):
C01B 31/02 101 Z
, D01F 9/22
F-Term (18):
4G046CA04
, 4G046CB01
, 4G046CB03
, 4G046CB10
, 4G046CC02
, 4G046CC03
, 4G046EA03
, 4G046EB02
, 4G046EC02
, 4G046EC03
, 4L037CS03
, 4L037CT25
, 4L037FA01
, 4L037FA02
, 4L037PC09
, 4L037PS03
, 4L037PS18
, 4L037PS20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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炭素材料製造用のポリアクリロニトリル-ピッチ系素原料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-205433
Applicant:丸善石油化学株式会社
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特公昭46-010496
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特開平1-314734
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