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J-GLOBAL ID：200903006021895770

投影式露光装置およびその方法並びに照明光学装置

Inventor： 芝田 行広 ,  押田 良忠 ,  野口 稔
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992184962
Publication number (International publication number)：1994029189
Application date： Jul. 13, 1992
Publication date： Feb. 04, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】パターンの露光、検査および表示において用いる照明光の指向性や照度分布を対象とするパターンの形状や寸法に応じて変化可能とし、対象とするパターンが代わってもそのパターンに最適な照明でパターンの露光、検査および表示を行う。【構成】投影式露光装置、パターン検査装置等に用いられる照明光学系として、光源24から出射した光を光ファイバーを束ねた光ファイバー束1の入射端に集め、この光ファイバー束1の入射端を複数の小光ファイバー束に分岐し、この複数の小光ファイバー束端の相対的な位置を小光ファイバー束相対位置可変機構10によって、棒状レンズ500に入射する光束の径を制御する。【効果】比較的簡単な構成で、かつ光の損失を生じることなく照明光の指向性を照度分布を一様に保ち変化させることが可能となる。

Claim (excerpt)：

露光光源と、該露光光源より出射した光をマスクまたはレチクルに照射せしめるべく、前記露光光源より出射した光が入射される入射面を有する複数の光ファイバーを束ねた光ファイバー束部と該光ファイバー束部から分岐され、出射面を有する複数個の小さい束の小光ファイバー束部とから構成された光ファイバーを有し、前記光ファイバから出射された光を入射して特定角度成分の光を集光して発散させる集光発散光学系を備えた照明光学系と、該照明光学系により照明されてマスクまたはレチクルを透過した光を被露光物体状にマスク又はレチクルのパターン像として投影せしめる投影光学系とを備えたことを特徴とする投影式露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521