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J-GLOBAL ID：200903006025144086

レジストパターン形成方法

Inventor： 柳ケ瀬 昭 ,  藤原 匡之 ,  乃美 晴一
Applicant, Patent owner： 三菱レイヨン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995024376
Publication number (International publication number)：1996220776
Application date： Feb. 13, 1995
Publication date： Aug. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】 金属基材レジストとの密着性が良好でもぐり現象がなく短時間かつ高歩留まりで形成可能なレジストパターン形成方法を提供する。【構成】 アルカリ水溶液現像型ドライフィルムフォトレジストを用いて金属基材を加工する方法において、金属基材表面を化学エッチングした後その金属基材表面にドライフィルムフォトレジストを積層して露光・現像し、現像終了後に遠赤外線により金属基材上のレジストを熱処理することを特徴とするレジストパターン形成方法。

Claim (excerpt)：

アルカリ水溶液現像型ドライフィルムフォトレジストを用いて金属基材を加工する方法において、金属基材表面を化学エッチングした後その金属基材表面にドライフィルムフォトレジストを積層して露光・現像し、現像終了後に遠赤外線により金属基材上のレジストを熱処理することを特徴とするレジストパターン形成方法。

IPC (6)：

G03F 7/38 501 ,  C23F 1/00 101 ,  C23F 1/00 102 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/40 501 ,  H05K 3/06

FI (6)：

G03F 7/38 501 ,  C23F 1/00 101 ,  C23F 1/00 102 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/40 501 ,  H05K 3/06 J