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J-GLOBAL ID：200903006033202028

真空加熱によるプラスチック等の廃棄物の処理方法および装置

Inventor： 横山 芳昭
Applicant, Patent owner： 株式会社オギハラ
Agent (1)： 萼 経夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991263209
Publication number (International publication number)：1993305275
Application date： Sep. 13, 1991
Publication date： Nov. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】 プラスチック等の廃棄物を再利用するように処理すること。【構成】 減圧容器(真空炉)1内で被処理物をヒータ4により加熱して熱分解しガス体と炭化物または中間物とに分離して処理する。そして、有用なガス体はそのまま再利用するとともに有害なガスの処理を容易にしてガス処理装置を簡略化することができる。そして、炭化物または中間物は燃料の原料あるいは土木建築用材料などに利用することができる。

Claim (excerpt)：

被処理物を投入した炉内を減圧し、次に被処理物をヒータで加熱して被処理物から真空蒸発した蒸発物を回収装置にて回収するとともに被処理物を炭化または中間物化し、真空蒸発物と炭化物または中間物とを分離して処理することを特徴とする真空加熱によるプラスチック等の廃棄物の処理方法。

IPC (5)：

B09B 3/00 302 ,  B09B 3/00 ZAB ,  B09B 3/00 303 ,  B29B 17/00 ,  B29K105:26

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭48-011373
  
• 特開昭50-077301