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J-GLOBAL ID：200903006055513167

フォトレジストアッシング残滓洗浄除去剤

Inventor： 見神 一郎 ,  山下 喜文 ,  野仲 徹
Applicant, Patent owner： 株式会社トクヤマ
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998113809
Publication number (International publication number)：1999305453
Application date： Apr. 23, 1998
Publication date： Nov. 05, 1999
Summary：

【要約】フォトレジストの不完全灰化物や側壁堆積膜等のフォトレジストアッシング残滓を良好に除去でき、基板ウェハ上の絶縁膜や導電性膜の腐食性も低いフォトレジストアッシング残滓洗浄除去剤を開発すること。【解決手段】0.01〜5重量%の濃度のフッ素系界面活性剤水溶液、好適にはパーフルオロアルキルアンモニウム塩水溶液からなるフォトレジストアッシング残滓洗浄除去剤。

Claim (excerpt)：

0.01〜5重量%の濃度のフッ素系界面活性剤水溶液からなるフォトレジストアッシング残滓洗浄除去剤。

IPC (2)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/30 572 B