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J-GLOBAL ID:200903006060539697
基板処理装置およびパーティクル除去方法
Inventor:
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,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
吉田 茂明
, 吉竹 英俊
, 有田 貴弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004372960
Publication number (International publication number):2006179765
Application date: Dec. 24, 2004
Publication date: Jul. 06, 2006
Summary:
【課題】基板処理装置において、基板に対するダメージを抑制しつつ、基板の表面からパーティクルを効率よく除去できる技術を提供する。【解決手段】基板処理装置1では、マイクロバブル発生部33においてマイクロバブルを発生させ、マイクロバブルを含む純水を、処理槽10内の基板Wへ供給する。また、超音波発生部50において超音波振動を発生させ、処理槽10内の純水を介して基板Wの表面まで超音波振動を伝搬させる。このため、基板Wの表面に付着したパーティクルは、超音波振動の衝撃によって基板Wの表面から遊離し、その後、マイクロバブルに吸着されて、処理槽10外まで運搬される。また、基板Wの周辺にマイクロバブルを供給しつつ超音波振動を付与するため、超音波振動による過度の衝撃がマイクロバブルに吸収され、基板Wに対するダメージを緩和できる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
液体により基板の処理を行う基板処理装置であって、
液体を貯留する処理槽と、
前記処理槽内の液体に浸漬させた状態で基板を保持する保持手段と、
前記処理槽内に液体を供給する液体供給手段と、
前記処理槽内に貯留された液体に超音波振動を付与する超音波振動付与手段と、
前記液体供給手段から前記処理槽内へ供給される液体にマイクロバブルを発生させるマイクロバブル発生手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (1):
FI (2):
H01L21/304 642E
, H01L21/304 647Z
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
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基板処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-223109
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
Cited by examiner (5)
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基板処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-178035
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
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基板洗浄装置および基板洗浄方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-124708
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
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洗浄装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-278611
Applicant:富士機器工業株式会社
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超音波洗浄方法およびその洗浄装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-043859
Applicant:株式会社日立製作所
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基板処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-327753
Applicant:株式会社荏原製作所
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