Pat

J-GLOBAL ID：200903006071761901

デバイス、反応装置、分離装置、基板部材、デバイスの製造方法

Inventor： 秋葉 朗 ,  坂田 稔 ,  山田 和弘 ,  遠藤 明
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所
Agent (1)： 大場 充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003195400
Publication number (International publication number)：2005028267
Application date： Jul. 10, 2003
Publication date： Feb. 03, 2005
Summary：

【課題】反応の効率を高め、物質の必要量を少なくすることができ、小型でしかも汎用性の高いデバイス、反応装置等を提供することを目的とする。【解決手段】デバイス10は、二枚一対の基板11A、11B間に、基板12を挟み込んで積層し、基板12の上面側に、物質の投入口となる開口部17Aを備え、基板12の下面側に、物質の排出口となる開口部17Bを備えた構成となっている。そして、基板12には、基板12を貫通する複数の孔15を形成し、各孔15に、基板12の一面側から他面側に貫通する微細流路が多数形成されたポーラス材料を担持する構成とした。【選択図】 図3

Claim (excerpt)：

板状で複数の貫通孔が形成され、それぞれの前記貫通孔に、複数の微細孔を有するポーラス材料が設けられた第一の基板と、 前記第一の基板の一面側を覆う第二の基板と、 前記第一の基板の他面側を覆う第三の基板と、 前記第一の基板と前記第二の基板の間に形成され、外部に連通する開口部を有した第一の室と、 前記第一の基板と前記第三の基板との間に形成され、外部に連通する開口部を有した第二の室と、を備えることを特徴とするデバイス。

IPC (2)：

B01J19/00 ,  C07B61/00

FI (2)：

B01J19/00 321 ,  C07B61/00 C

F-Term (14)：

4G075AA02 ,  4G075AA39 ,  4G075BA10 ,  4G075BB03 ,  4G075BB05 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075FA01 ,  4G075FA12 ,  4G075FA14 ,  4H006AA04 ,  4H006AC00 ,  4H006AD00