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J-GLOBAL ID：200903006086420507

洗浄方法及び洗浄装置

Inventor： 柳川 昌史 ,  奥田 正樹
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 北野 好人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994038041
Publication number (International publication number)：1995249604
Application date： Mar. 09, 1994
Publication date： Sep. 26, 1995
Summary：

【要約】【目的】 被洗浄物の洗浄に際し生ずるゴミを確実に取り除くことにより、洗浄後の被洗浄物にゴミが再付着することがない洗浄方法及び洗浄装置を提供する。【構成】 ウエーハ保持部(保持手段)18a,18b,18c,18dに装着した半導体ウエーハ(被洗浄物)13を洗浄液L中に位置させて半導体ウエーハ13をウエーハ保持部18a,18b,18c,18dと共に浸漬状態とし、洗浄液Lを溜める洗浄槽11から洗浄液Lを排出して半導体ウエーハ13を洗浄する洗浄装置において、洗浄槽11内のウエーハ保持部18a,18b,18c,18dが配置された配置位置近傍に開口し、洗浄槽11から洗浄液Lを排出する排出口14a,14b,14c,14dを有する。

Claim (excerpt)：

保持手段(18a,18b,18c,18d)に装着した被洗浄物(13)を洗浄液(L)中に位置させて前記被洗浄物(13)を前記保持手段(18a,18b,18c,18d)と共に浸漬状態とした後、前記洗浄液(L)を溜める洗浄槽(11)から前記洗浄液Lを排出して前記被洗浄物(13)を洗浄する洗浄方法において、前記保持手段(18a,18b,18c,18d)から前記洗浄槽(11)内の前記保持手段(18a,18b,18c,18d)が配置された配置位置近傍に開口する排出口(14a,14b,14c,14d)へと向かう排液流路を介して、前記洗浄液(L)を排出することを特徴とする洗浄方法。

IPC (3)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平1-169930
  
• 特開平1-169930
  
• 特開平1-169930
  
• 特開平1-169930