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J-GLOBAL ID：200903006093964393

ガス清浄方法および装置

Inventor： 中世古 誠 ,  藤林 晃夫 ,  福嶋 信一郎
Applicant, Patent owner： JFEスチール株式会社
Agent (1)： 石川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003035467
Publication number (International publication number)：2004243216
Application date： Feb. 13, 2003
Publication date： Sep. 02, 2004
Summary：

【課題】高炉ガス等の副生ガスに含まれるダストをミクロンオーダーからサブミクロンオーダーまで高能率且つ容易に除去することができる。【解決手段】凝縮室1と不純物捕集室2と冷却水が流れる前記各室の壁により構成される冷却手段とプラズマ照射手段8と超音波照射手段9とを備え、凝縮室1と不純物捕集室2とは、開口部4が形成された仕切り壁3を介して複数個、交互に連続して形成され、凝縮室1は、加熱、加湿された、不純物を含むガスを前記冷却手段により急冷して、前記ガス中に含まれるダストの周囲に水蒸気を凝縮させ、プラズマ照射手段8は、前記ダストの親水性を高め、超音波照射手段9は、前記ダストの増径化を図り、不純物捕集室2は、凝縮室1内での水蒸気の凝縮により重量増加した前記ダストを壁面に衝突させ流下させて、前記ダストを前記ガスから除去する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

加熱、加湿された流動するガスを急冷して、前記ガス中に含まれる不純物の周囲に水蒸気を凝縮させ、そして、水蒸気の凝縮により重量増加した前記不純物を壁面に衝突させて流下させることを少なくとも1回行って前記不純物を前記ガスから除去する際に、前記ガスにプラズマを照射することを特徴とするガス清浄方法。

IPC (3)：

B01D45/08 ,  B01D51/00 ,  F27D17/00

FI (6)：

B01D45/08 Z ,  B01D51/00 A ,  B01D51/00 B ,  B01D51/00 D ,  F27D17/00 105A ,  F27D17/00 105K

F-Term (14)：

4D031AB02 ,  4D031BA01 ,  4D031BB04 ,  4D031DA01 ,  4D031EA01 ,  4K056AA01 ,  4K056AA02 ,  4K056AA16 ,  4K056CA02 ,  4K056DA38 ,  4K056DB05 ,  4K056DB11 ,  4K056DB21 ,  4K056FA08