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J-GLOBAL ID：200903006101316304
パターン形成方法およびパターン形成装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
北村 欣一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994004872
Publication number (International publication number)：1995209864
Application date： Jan. 20, 1994
Publication date： Aug. 11, 1995
Summary：
【要約】【目的】 従来の回転塗布法に比較して膜厚の制御性に優れ、基板上に形成された薄膜の有機溶媒の除去、乾燥工程がなく作業環境性に優れ、真空中で一貫して不純物の混入、ダストを防止して基板表面のポリ尿素膜に所望のフォトレジストのパターン形状を極めて容易に形成することが出来るパターン形成方法。【構成】 真空中で感光性合成樹脂の原料モノマーを蒸発させ、基板表面で蒸着重合させてポリ尿素膜を形成し、次いで形成されたポリ尿素膜にパターン形成用のフォトマスクを使用して紫外線を照射し、露光した後、該ポリ尿素膜を加熱し、未露光部分の膜を熱分解させて除去してポリ尿素膜にパターンを形成する。
Claim (excerpt)：
真空中で感光性合成樹脂の原料モノマーを蒸発させ、基板表面で蒸着重合させてポリ尿素膜を形成し、次いで形成されたポリ尿素膜にパターン形成用のフォトマスクを使用して紫外線を照射し、露光した後、該ポリ尿素膜を加熱し、未露光部分の膜を熱分解させて除去してポリ尿素膜にパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。
IPC (5)：
G03F 7/038
, C08G 71/02 NTA
, G03F 7/26
, G03F 7/36
, H01L 21/027
H01L 21/30 568
, H01L 21/30 569 H
Cited by examiner (10)
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