Pat
J-GLOBAL ID:200903006106218556
多孔質炭素材料の製造方法、多孔質炭素材料およびこれを用いた電気二重層キャパシタ
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
渡辺 望稔 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000118085
Publication number (International publication number):2001302225
Application date: Apr. 19, 2000
Publication date: Oct. 31, 2001
Summary:
【要約】【課題】低コストで工程化が容易な酸化性ガス賦活法により、比表面積の大きい多孔質炭素材料を歩留まりよく製造すること。【解決手段】ソフトカーボン系炭素材料に、酸素の存在下、賦活温度よりも低い温度で加熱する前処理を施した後、酸化性ガスで賦活して多孔質炭素材料を製造する。前処理は、200〜500°Cの温度で行うことが好ましい。比表面積が1000m2 /g以上である多孔質炭素材料も得られ、静電容量の大きい電気二重層キャパシタ用電極材料となる。
Claim (excerpt):
ソフトカーボン系炭素材料に、酸素の存在下、賦活温度よりも低い温度で加熱する前処理を施した後、酸化性ガスで賦活する多孔質炭素材料の製造方法。
IPC (4):
C01B 31/10
, H01G 9/058
, H01M 4/58
, H01M 4/02
FI (4):
C01B 31/10
, H01M 4/58
, H01M 4/02 D
, H01G 9/00 301 A
F-Term (14):
4G046HA05
, 4G046HA07
, 4G046HC09
, 4G046HC11
, 4G046HC14
, 5H050AA08
, 5H050BA16
, 5H050CB09
, 5H050FA17
, 5H050GA02
, 5H050GA14
, 5H050GA27
, 5H050HA07
, 5H050HA14
Patent cited by the Patent: