高抵抗化酸化インジウム膜

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：東海裕作 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994021912
Publication number (International publication number)：1994293957
Application date： Jan. 21, 1994
Publication date： Oct. 21, 1994
Summary：

【要約】【目的】 200〜 3000 Ω/□の比較的高いシート抵抗値を有し、かつ均一性、透過率性及び耐熱性に優れた酸化インジウム膜を得る成膜方法を提供する。【構成】Si,Ti,Ge,Sr,Zr、Cd及びBからかる群より選ばれた元素の単体又は化合物の少なくとも一種をInに対して 0.05 〜40原子%を含有する酸化インジウム膜、及び酸素含有雰囲気又はオゾン含有雰囲気中で処理する該酸化インジウム膜の成膜方法。【効果】該方法により、高抵抗な、しかも均一性、透過率性及び耐熱性に優れた酸化インジウム膜を効率的に成膜することが出来る。

Claim (excerpt)：

膜中にSi,Ti,Ge,Sr,Zr、Cd及びBからなる群より選ばれた元素の単体又は化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする酸化インジウム膜。

IPC (4)：

C23C 14/08 , C03C 17/34 , H01B 5/14 , H01B 13/00 503

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

特開平4-206403
特開昭62-202415
特開平3-249171

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