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J-GLOBAL ID：200903006135175564

磁気ディスク用基板の製造方法

Inventor： 土肥 俊郎 ,  宮入 広雄 ,  佐藤 仁宣
Applicant, Patent owner： 三菱アルミニウム株式会社
Agent (1)： 志賀 正武 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999330697
Publication number (International publication number)：2001148116
Application date： Nov. 19, 1999
Publication date： May. 29, 2001
Summary：

【要約】【課題】 高記録密度、大容量に適した表面性状を有する磁気ディスク用基板を提供する。【解決手段】 Ni-Pメッキ後の粗研磨工程において、硬度:80〜100度、圧縮率:0〜8%、圧縮弾性率:50〜90%、密度:0.5〜0.8g/cm3 の研磨布を使用して研磨する。研磨後の磁気ディスク用基板は、うねり:1.0nm以下、微小うねり:1.5nm以下、ダブオフ:150nm以下、ロールオフ:12nm以下の平坦性に優れた表面性状を有する高記録密度、大容量に適した磁気ディスク用基板となる。

Claim (excerpt)：

非磁性基板上にNi-Pメッキを施した基板を、硬度:80〜100度、圧縮率:0〜8%、圧縮弾性率:50〜90%、密度:0.5〜0.8g/cm3 の研磨布を使用して研磨することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法。

IPC (3)：

G11B 5/84 ,  B24B 37/00 ,  G11B 5/73

FI (4)：

G11B 5/84 A ,  B24B 37/00 C ,  B24B 37/00 A ,  G11B 5/73

F-Term (20)：

3C058AA09 ,  3C058AA19 ,  3C058BA02 ,  3C058BA04 ,  3C058BA05 ,  3C058CA01 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12 ,  5D006CB04 ,  5D006CB08 ,  5D006DA03 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA06 ,  5D112GA09 ,  5D112GA13 ,  5D112GA14