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J-GLOBAL ID:200903006136572508
X線発生用ターゲット
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
永井 冬紀
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992153660
Publication number (International publication number):1993347195
Application date: Jun. 12, 1992
Publication date: Dec. 27, 1993
Summary:
【要約】【目的】 レーザプラズマX線源で発生するX線のスペクトル分布を任意に設定できるようにする。【構成】 プラズマ発生源3となる物質がレーザ照射部1aに設けられ、このプラズマ発生源3にレーザ7を照射してプラズマ化することによりX線を発生させるX線発生用ターゲット1において、このプラズマ発生源3を複数種類の物質4〜6から構成した。
Claim (excerpt):
プラズマ発生源となる物質がレーザ照射部に設けられ、このプラズマ発生源にレーザを照射してプラズマ化することによりX線を発生させるX線発生用ターゲットにおいて、前記プラズマ発生源は複数種類の物質から構成されていることを特徴とするX線発生用ターゲット。
IPC (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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特開昭63-128537
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特開平4-112498
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特開昭62-015740
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