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J-GLOBAL ID：200903006138646096
フオトレジストパターン直接描画装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
三品 岩男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991246147
Publication number (International publication number)：1993080524
Application date： Sep. 25, 1991
Publication date： Apr. 02, 1993
Summary：
【要約】【目的】小型で、安価なフォトレジストパターン直接描画装置を提供する。【構成】フォトレジスト付きの基板を載せるための基板載せ台と、前記フォトレジストを露光するための、アレイ状に配置した端面発光型EL素子を有する露光光源と、前記基板と前記露光光源とを相対的に移動させるための駆動部とを有することを特徴とするフォトレジストパターン直接描画装置。
Claim (excerpt)：
フォトレジスト付きの基板を載せるための基板載せ台と、前記フォトレジストを露光するための、アレイ状に配置した端面発光型EL素子を有する露光光源と、前記基板と前記露光光源とを相対的に移動させるための駆動部とを有することを特徴とするフォトレジストパターン直接描画装置。
IPC (3)：
G03F 7/20 501
, H05B 33/00
, H05K 3/00
