厚膜パターン形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：土井育郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997045099
Publication number (International publication number)：1998055758
Application date： Feb. 28, 1997
Publication date： Feb. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】簡単な工程で精度の高いパターンを得られる厚膜パターン形成方法を提供する。【解決手段】フィルム11上に感光性ペーストを塗布してパターン形成層12を形成し、このパターン形成層12が対向するようにしてガラス基板13にフィルム11をラミネートする。そして、フィルム11の上からマスクMを介して露光し、フィルム11を剥離した後、現像して未露光部12aを除去し、焼成工程を経てパターン14を得る。パターン形成層12に粘着性がない場合、フィルム11を剥離してから露光するようにしてもよい。パターン形成層12を基板13上に位置させて露光するため、工程の簡略化が図れるとともに、膜厚の均一性が良好なパターンが形成できる。

Claim (excerpt)：

少なくとも次の工程を含むことを特徴とする厚膜パターン形成方法。(1)感光性ペーストを予めフィルムに塗布して当該フィルム上にパターン形成層を形成する第1工程。(2)前記フィルムをそのパターン形成層側が対向するようにしてガラス基板にラミネートする第2工程。(3)前記フィルムの上から所定のマスクを介して前記パターン形成層を露光する第3工程。(4)前記フィルムを剥離した後、前記パターン形成層を現像して未露光部を除去する第4工程。(5)基板全体を焼成してパターン形成層の露光部をガラス基板に密着させる第5工程。

IPC (2)：

H01J 9/14 , H01J 9/02

FI (2)：

H01J 9/14 D , H01J 9/02 F

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平2-165538
特開平2-165538
カラーフィルタ用着色ペースト
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-053667 Applicant：東レ株式会社

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