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J-GLOBAL ID:200903006179532453

芳香族ポリエステルの製造方法及びこのポリエステルを用いたフイルムの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 前田 純博
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998104666
Publication number (International publication number):1999005834
Application date: Apr. 15, 1998
Publication date: Jan. 12, 1999
Summary:
【要約】【課題】 静電キャスト法により芳香族ポリエステルフイルムを製造する際回転冷却ドラム上への密着性に優れ、かつ静電ワイヤー汚れが少なく、高いフイルム生産性が得られる芳香族ポリエステルの製造方法、および該芳香族ポリエステルを用いたフイルムの製造を提供する。【解決手段】 直重法で芳香族ポリエステルを製造する方法において、エステル化をジカルボン酸に基づいて1〜30mmol%のエステル形成性官能基を有するスルホン酸4級ホスホニウム塩の共存下に実施し、そしてエステル化が実質的に終了した後、反応系に、リチウム化合物、カルシウム化合物、マグネシウム化合物、セリウム化合物およびコバルト化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属化合物またはそれとリン化合物を、下記式(1)〜(3);1≦M≦100 ......(1)0≦P≦20 ......(2)1.0≦M/(S+P)≦5.0 ......(3)(ここで、M、PおよびSはそれぞれ、ジカルボン酸に基づく、金属化合物、リン化合物およびエステル形成性官能基を有するスルホン酸4級ホスホニウム塩のmmol%を表わす。)を満足する割合で添加し、次いで重縮合触媒の存在下に重縮合を実施することを特徴とする芳香族ポリエステルの製造方法。
Claim (excerpt):
芳香族ジカルボン酸から主としてなるジカルボン酸とエチレングリコールから主としてなるグリコールとをエステル化し、次いで重縮合させて芳香族ポリエステルを製造する方法において、エステル化をジカルボン酸に基づいて1〜30mmol%のエステル形成性官能基を有するスルホン酸4級ホスホニウム塩の共存下に実施し、そしてエステル化が実質的に終了した後、反応系に、リチウム化合物、カルシウム化合物、マグネシウム化合物、セリウム化合物およびコバルト化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属化合物またはそれとリン化合物を、下記式(1)〜(3);【数1】1≦M≦100 ......(1)0≦P≦20 ......(2)1.0≦M/(S+P)≦5.0 ......(3)(ここで、M、PおよびSはそれぞれ、ジカルボン酸に基づく、金属化合物、リン化合物およびエステル形成性官能基を有するスルホン酸4級ホスホニウム塩のmmol%を表わす。)を満足する割合で添加し、次いで重縮合触媒の存在下に重縮合を実施することを特徴とする芳香族ポリエステルの製造方法。
IPC (6):
C08G 63/78 ,  C08G 63/82 ,  C08J 5/18 CFD ,  C08K 3/00 ,  C08K 5/521 ,  C08L 67/02
FI (6):
C08G 63/78 ,  C08G 63/82 ,  C08J 5/18 CFD ,  C08K 3/00 ,  C08K 5/521 ,  C08L 67/02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (7)
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