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J-GLOBAL ID：200903006192362265
CVD装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993071304
Publication number (International publication number)：1994283427
Application date： Mar. 30, 1993
Publication date： Oct. 07, 1994
Summary：
【要約】【目的】クリーニング用電極を備えた光CVD装置において、クリーニング時間の短縮化によってスループットを向上させること。【構成】基板203を収容して成膜を行なうための反応室201と、反応室201内に材料ガス222またはエッチングガス221を供給するためのスリットノズル205と、材料ガス22に光を照射するための光源215と、反応室201に設けられたクリーニング用電極213とを備えた光CVD装置において、上記スリットノズル205が、エッチングガスの下流方向に可動自在であるスリットノズル本体205bと、このスリットノズル本体205bを収容するためのノズルホルダー205aとで構成されていることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
基板を収容して成膜を行なうための反応室と、前記反応室内に成膜用の材料ガスを供給するためのガスノズルと、前記反応室内に導入された前記材料ガスに光を照射するための光照射手段と、前記反応室内に被着物除去用のエッチングガスを供給するためのガスノズルと、前記反応室内に設けられた被着物除去用の放電電極とを具備してなるCVD装置において、前記材料ガスを供給する前記ガスノズルは、前記エッチングガスを供給する前記ガスノズルと共通に用いられる第1のガスノズルと、この第1のガスノズルから供給されるガスの下流に設けられた第2のガスノズルとからなることを特徴とするCVD装置。
Patent cited by the Patent：
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