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J-GLOBAL ID：200903006205644176

ポリオルガノシロキサン微粒子の製造方法

Inventor： 仲山 典宏 ,  小池 匡
Applicant, Patent owner： 宇部日東化成株式会社
Agent (1)： 中村 静男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998235483
Publication number (International publication number)：1999152336
Application date： Aug. 21, 1998
Publication date： Jun. 08, 1999
Summary：

【要約】【課題】 特に液晶表示装置用スペーサとして好適な、所望の粒径を有し、かつ粒径分布が単分散のポリオルガノシロキサン微粒子を効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】 HLB値8〜20のノニオン性界面活性剤と、アンモニアやアミンを含有する水性溶液の存在下に、一般式(I) R1nSi(OR2)4-n ・・・(I)(各記号は明細書に記載したとおりである。)で表されるケイ素化合物を加水分解・縮合させて、ポリオルガノシロキサン微粒子を製造する。

Claim (excerpt)：

HLB値(親水性親油性バランス値)8〜20のノニオン性界面活性剤と、アンモニアおよび/またはアミンを含有する水性溶液の存在下に、一般式(I) R1nSi(OR2)4-n ・・・(I)(式中、R1は非加水分解性基であって、炭素数1〜20のアルキル基、(メタ)アクリロイルオキシ基若しくはエポキシ基を有する炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数7〜20のアラルキル基、R2は炭素数1〜6のアルキル基、nは1〜3の整数を示し、R1が複数ある場合、各R1はたがいに同一であっても異なっていてもよく、OR2が複数ある場合、各OR2はたがいに同一であっても異なっていてもよい。)で表されるケイ素化合物を加水分解・縮合させることを特徴とするポリオルガノシロキサン微粒子の製造方法。

IPC (2)：

C08G 77/08 ,  G02F 1/1339 500

FI (2)：

C08G 77/08 ,  G02F 1/1339 500

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-033927
  
• 特開昭63-077940
  
• 特開昭63-295637
  
• 特開平1-145317