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J-GLOBAL ID：200903006208594234

電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタ装置及び薄膜の製造方法

Inventor： 玉田 作哉
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998374382
Publication number (International publication number)：2000199060
Application date： Dec. 28, 1998
Publication date： Jul. 18, 2000
Summary：

【要約】【課題】 複雑な形状加工を高度に施すことが困難な材料をターゲットとして用いる。【解決手段】 筒状ターゲット11を、略矩形平板状に形成したターゲット材14を多角形筒状に組み合わせることにより形成する。筒状ターゲット11の内面側に、ターゲット材14同士が隣接する稜線部分を遮蔽するシールド部15を設け、このシールド部15を接地する。

Claim (excerpt)：

複数の略矩形平板状ターゲット材によって構成された筒状ターゲットの内面側に、上記ターゲット材同士が隣接する稜線部分を遮蔽し、且つ接地されたシールド部が設けられたことを特徴とする電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタ装置。

IPC (2)：

C23C 14/35 ,  C23C 14/34

FI (2)：

C23C 14/35 Z ,  C23C 14/34 B

F-Term (15)：

4K029AA08 ,  4K029BA58 ,  4K029BB03 ,  4K029CA05 ,  4K029CA13 ,  4K029DA08 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC13 ,  4K029DC16 ,  4K029DC39 ,  4K029DC48 ,  4K029EA07 ,  4K029HA01 ,  4K029JA01