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J-GLOBAL ID：200903006214259897

直接描画用フイルムレジスト及びそのフイルムレジストを用いたエツチング加工法

Inventor： 岩沢 直純 ,  今井 玄児
Applicant, Patent owner： 関西ペイント株式会社
Agent (1)： 小田島 平吉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991236942
Publication number (International publication number)：1993053319
Application date： Aug. 23, 1991
Publication date： Mar. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】 高解像度で、酸素による感光性の低下がなく、直接描画法による微細画像パターン形成能に優れたフイルムレジスト及びそのフイルムレジストを用いたエツチング加工法を提供する。【構成】 支持フイルム上に、現像液に可溶であり、酸素遮断性を有し且つ常温で実質的に粘着性のない膜厚1〜5μmの非感光性被膜層を形成し、さらに該非感光性被膜層上に、常温で粘着性のある感光性被膜層を形成した直接描画用フイルムレジスト、及びそのフイルムレジストを用いたエツチング加工法。

Claim (excerpt)：

支持フイルム上に形成された、現像液に可溶であり、酸素遮断性を有し且つ常温で実質的に粘着性のない膜厚1〜5μmの非感光性被膜層と、該非感光性被膜層上に設けられた、常温で粘着性のある感光性被膜層から成ることを特徴とする直接描画用フイルムレジスト。

IPC (3)：

G03F 7/11 501 ,  G03F 7/004 512 ,  H05K 3/06