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J-GLOBAL ID:200903006228187813

排ガス浄化触媒及び排ガス浄化触媒の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  川又 澄雄 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005341152
Publication number (International publication number):2007144290
Application date: Nov. 25, 2005
Publication date: Jun. 14, 2007
Summary:
【課題】 触媒として低温性能に優れるRhを、助触媒として酸素吸蔵放出材とを含有している排ガス浄化触媒におけるRhが酸化することによる触媒性能の低下を抑制することができる排ガス浄化触媒を提供する。【解決手段】 少なくともロジウム粒子を含む貴金属粒子4と、酸素吸蔵放出材粒子1と、貴金属粒子4と酸素吸蔵放出材粒子1との間に介在し、酸素吸蔵放出材粒子1とは離隔した表面で貴金属粒子4を担持する担体酸化物2とを有する排ガス浄化触媒。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
少なくともロジウム粒子を含む貴金属粒子と、 酸素吸蔵放出材粒子と、 前記貴金属粒子と前記酸素吸蔵放出材粒子との間に介在し、前記酸素吸蔵放出材粒子とは離隔した表面で前記貴金属粒子を担持する担体酸化物と を有することを特徴とする排ガス浄化触媒。
IPC (6):
B01J 23/58 ,  B01J 35/08 ,  B01D 53/94 ,  F01N 3/08 ,  F01N 3/10 ,  F01N 3/28
FI (7):
B01J23/58 A ,  B01J35/08 B ,  B01D53/36 101B ,  B01D53/36 102D ,  F01N3/08 A ,  F01N3/10 A ,  F01N3/28 301P
F-Term (61):
3G091AB01 ,  3G091AB08 ,  3G091BA01 ,  3G091BA07 ,  3G091BA14 ,  3G091BA39 ,  3G091GA06 ,  3G091GA18 ,  3G091GB04W ,  3G091GB05W ,  3G091GB06W ,  3G091GB07W ,  3G091GB10W ,  3G091GB17X ,  4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048BA07X ,  4D048BA08X ,  4D048BA18X ,  4D048BA19X ,  4D048BA30X ,  4D048BA31X ,  4D048BA33X ,  4D048BB02 ,  4D048EA04 ,  4G169AA01 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA11 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA05A ,  4G169BA05B ,  4G169BC40A ,  4G169BC42A ,  4G169BC43A ,  4G169BC43B ,  4G169BC44A ,  4G169BC44B ,  4G169BC71A ,  4G169BC71B ,  4G169BC72B ,  4G169BC75B ,  4G169CA03 ,  4G169CA08 ,  4G169CA13 ,  4G169EA04X ,  4G169EA04Y ,  4G169EB10 ,  4G169EB15X ,  4G169EB15Y ,  4G169EB18X ,  4G169EB18Y ,  4G169EC28 ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FB06 ,  4G169FB14 ,  4G169FB15 ,  4G169FB30 ,  4G169FB78
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 層状触媒
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2003-097326   Applicant:三井金属鉱業株式会社

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