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J-GLOBAL ID：200903006232016390

密度分布からの寸法の測定

Inventor： ヴィルティング,ヤンティエ イー
Applicant, Patent owner： フィリップス エレクトロニクス エヌ ベー
Agent (1)： 伊東 忠彦 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997514862
Publication number (International publication number)：1998510746
Application date： Oct. 02, 1996
Publication date： Oct. 20, 1998
Summary：

【要約】検査される対象の密度分布は、例えばX線コンピュータ断層撮影法或いは、磁気共鳴イメージング法によって作られる。検査される対象の対応する細部の正確な寸法は、密度分布の細部の密度値及び当該細部の外側の密度値から求められる。当該細部の最大密度値の減少は、当該細部の外側の密度値に基づいて補正されることが望ましい。

Claim (excerpt)：

密度分布の細部から検査される対象の中の対応する細部の寸法を求めることによって、検査される対象の密度分布から対象の細部の寸法を測定する方法であって、 対象の対応する細部寸法の値は、 密度分布の該細部の外側の密度分布の一部分の密度値及び、 密度分布の中の該細部の密度値から求められることを特徴とする方法。