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J-GLOBAL ID:200903006268319160

表面処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 旦 範之 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992300354
Publication number (International publication number):1994124936
Application date: Oct. 13, 1992
Publication date: May. 06, 1994
Summary:
【要約】【目的】 密閉容器内の低温度試料にキャリヤ流体と共に少量の表面処理用流体を吹き付けることで表面結露させた後、水洗することで大面積の試料表面に短時間でしかもコスト安に環境に優しく洗浄等の処理を施こす。【構成】 表面処理をすべき試料1 を内装した密閉容器2 に冷却部 2aとドレイン部 2bとを設けると共に、前記密閉容器2 には純水源3 、不活性ガス源4 、流体混合器5 および加熱加圧蒸気源6 をそれぞれ開閉バルブa,b,c,dを経て配管接続し、前記流体混合器5 の複数の流入口にそれぞれ切換バルブe1 を介して表面処理用流体源7 、純水源3 および開閉バルブfを経て前記加熱加圧蒸気源6 を配管接続した。
Claim (excerpt):
表面処理をすべき試料1 を内装した密閉容器2 に冷却部 2aとドレイン部 2bとを設けると共に、前記密閉容器2 には純水源3 、不活性ガス源4 、流体混合器5 および加熱加圧蒸気源6 をそれぞれ開閉バルブa,b,c,dを経て配管接続し、前記流体混合器5 の複数の流入口にそれぞれ切換バルブe1 を介して表面処理用流体源7 、純水源3 および開閉バルブfを経て前記加熱加圧蒸気源6 を配管接続してなる表面処理装置。
IPC (4):
H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 341 ,  B08B 3/08 ,  H05K 3/26
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平1-020625

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