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J-GLOBAL ID：200903006268751991

製版マスク作成用熱溶融転写材料、製版マスク作成方法、製版マスク及び製版マスク回収方法並びにその回収装置

Inventor： 瀧本 正高 ,  間野 茂 ,  小川 隆宏 ,  川上 壮太
Applicant, Patent owner： コニカ株式会社
Agent (1)： 鶴若 俊雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991209865
Publication number (International publication number)：1993034896
Application date： Jul. 26, 1991
Publication date： Feb. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】 熱溶融転写材料の保存性に優れ、かつピンホールがなく耐久性に優れた製版マスクを作成することができる。【構成】 支持体11上に融点が100°C以上のワックスを主成分とする剥離層12を介して、有機溶媒可溶性染料及びワックスと非相溶な樹脂とを主成分とする遮光層13を形成し、必要に応じて遮光層13上に接着層14を形成した。このワックスと非相溶な樹脂がマレイン酸系樹脂、スチレン系樹脂、テルペン系樹脂、石油樹脂、クロマン-インデン樹脂、イソプレン系樹脂から選ばれる少なくとも一種である。また、この熱溶融転写材料1を、樹脂コート22した透明フィルム2に重ねて、その熱溶融転写材料1の遮光層13を透明フィルム2に熱転写して製版マスクに作成する。

Claim (excerpt)：

支持体上に融点が100°C以上のワックスを主成分とする剥離層を介して、有機溶媒可溶性染料及びワックスと非相溶な樹脂とを主成分とする遮光層を形成し、必要に応じて遮光層上に接着層を形成したことを特徴とする製版マスク作成用熱溶融転写材料。

IPC (3)：

G03F 1/06 ,  B41M 5/30 ,  G03F 1/00