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J-GLOBAL ID：200903006270234198

ネガ型フォトレジスト組成物

Inventor： 井 川 昭 彦 ,  西 川 雅 人 ,  ゲオルク、パウロスキー ,  ラルフ、ダメル
Applicant, Patent owner： ヘキストジャパン株式会社
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992110285
Publication number (International publication number)：1993303196
Application date： Apr. 28, 1992
Publication date： Nov. 16, 1993
Summary：

【要約】【目的】 サブミクロン以下の解像度を有しかつ理想的な矩形のレジストパターンを形成可能なネガ型フォトレジストを提供する。【構成】 (A) 下記の一般式(I)で表される化合物と、【化1】式中、R1およびR2は、互いに異なって、それぞれ水素原子または下記の一般式(II) で表される基を表す:【化2】(B) アルコキシメチル化メラミンと、そして(C) ノボラック樹脂とを含有してなる、ネガ形フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

ネガ型フォトレジスト組成物であって、(A) 下記の一般式(I):【化1】[式中、R1およびR2は、互いに異なって、それぞれ水素原子または下記の一般式(II) で表される基を表す:【化2】(式中、R3およびR4は、同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子またはアルキル基を表し、R5、R6およびR7は、同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換または未置換のアルキル基(ここで、このアルキル基鎖中の一またはそれ以上のメチレン基は酸素原子または硫黄原子と置換されていてもよい)、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアリールオキシ基を表すか、もしくは、R5、R6およびR7としての二つのアルキル基は一緒になって5または6員環を形成していてもよい。)]で表される化合物と、(B) アルコキシメチル化メラミンと、そして(C) ノボラック樹脂とを含有してなる、ネガ型フォトレジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平2-146044
  
• 特開平2-217855
  
• 特開平3-253093
  
• 特開昭60-105667
  
• 特開平2-048665