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J-GLOBAL ID：200903006333720497
露光装置及びデバイス製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
立石 篤司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000235319
Publication number (International publication number)：2002050563
Application date： Aug. 03, 2000
Publication date： Feb. 15, 2002
Summary：
【要約】【課題】 スキャン露光装置とのミックス・アンド・マッチを行う際に、その装置の能力を最大限発揮させ、かつ露光精度を維持しつつ、スループットを向上させ得る静止型の露光装置を提供する。【解決手段】 スキャン露光装置における1ショットを、一括して露光可能なイメージフィールドを有する投影光学系PLを備えている。このため、スキャン露光装置の最大露光可能範囲をショット領域とした1in1露光が可能になる。また、主制御装置28が、パターンの最小線幅に応じてスループットに寄与する露光システム100の制御ファクタを変更する。露光精度の低下を許容できる場合にのみスループットをより重視した状態(又は値)となるように前記制御ファクタを変更する。常に同一の値に基づいて露光システムを制御する場合に比べ、露光精度を維持しつつ、スループットを向上させることができる。
Claim (excerpt)：
マスクと基板とをほぼ静止した状態で、前記マスクを介してエネルギビームにより前記基板を露光する露光装置であって、スキャン露光装置における前記基板上の一つの区画領域を、前記マスクから射出された前記エネルギビームを前記基板に投射して一括して露光可能な大きさのイメージフィールドを有する投影光学系を備えた露光システムと;前記露光システムを全体的に制御するとともに、前記露光システムのスループットに関連する制御ファクタを、露光対象のパターンの最小線幅に応じて変更する制御システムと;を備える露光装置。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 515 D
, H01L 21/30 516 Z
5F046AA28
, 5F046BA04
, 5F046BA10
, 5F046CB25
, 5F046DA30
