半導体装置およびその作製方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000145899
Publication number (International publication number)：2001033824
Application date： May. 18, 2000
Publication date： Feb. 09, 2001
Summary：

【要約】【課題】 IPS方式の液晶表示装置において、保持容量の形成方法を提案し、開口率の高い画素領域を形成する技術を提供する。【解決手段】IPS方式によるLCDに代表される電気光学装置の各回路に用いられる絶縁膜、特に樹脂膜上に形成された共通電極103の表面を印加電圧/給電時間が11V/min以上で陽極酸化工程を行い、陽極酸化膜で覆うことによって、廻り込み量を少なくすることができ、密着性の優れた電極を有する信頼性の高い液晶表示装置を作製することができる。

Claim (excerpt)：

一対の基板と該一対の基板に挟持された液晶層とを有し、前記一対の基板のうち、一方の基板には画素電極が形成されており、前記画素電極と共通電極との間で基板面に平行な電界を印加する半導体装置において、共通電極と、該共通電極の少なくとも一部に酸化膜と、該酸化膜の上に設けられた画素電極とで形成される容量を備えていることを特徴とする半導体装置。

IPC (7)：

G02F 1/1368 , G02F 1/1339 500 , G02F 1/1343 , G09F 9/30 320 , G09F 9/30 338 , H01L 29/786 , H01L 21/336

FI (8)：

G02F 1/136 500 , G02F 1/1339 500 , G02F 1/1343 , G09F 9/30 320 , G09F 9/30 338 , H01L 29/78 612 B , H01L 29/78 612 Z , H01L 29/78 619 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

液晶表示装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-214896 Applicant：大林精工株式会社
液晶表示装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-017190 Applicant：株式会社日立製作所
液晶パネル用基板、液晶パネル及びそれを用いた電子機器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-022388 Applicant：セイコーエプソン株式会社

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