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J-GLOBAL ID：200903006388957844

地盤注入工法

Inventor： 栢原 健二
Applicant, Patent owner： 強化土エンジニヤリング株式会社
Agent (1)： 染谷 仁
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992036948
Publication number (International publication number)：1993202513
Application date： Jan. 29, 1992
Publication date： Aug. 10, 1993
Summary：

【要約】【目的】 水ガラスグラウトにおいて、アルカリの溶脱を極力減少して地下水のアルカリ性への移行をできる限り抑制するとともに、耐久性にも優れる地盤注入工法を得る。【構成】 一次注入材として水ガラス以外のシリカ化合物の水懸濁液を地盤中に注入し、二次注入材としてモル比=SiO2 のモル濃度/Na2 Oのモル濃度が2.0以下の水ガラスと反応剤とからなる水ガラスグラウトを地盤中に注入する。

Claim (excerpt)：

一次注入材と二次注入材を地盤中に注入する地盤注入工法において、一次注入材として水ガラス以外のシリカ化合物の水懸濁液を用い、二次注入材としてモル比=SiO2 のモル濃度/Na2 Oのモル濃度が2.0以下の水ガラスと反応剤とからなる水ガラスグラウトを用いることを特徴とする地盤注入工法。