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J-GLOBAL ID：200903006435592108

構造体を用いた薄膜パターン製造方法および構造体

Inventor： 篠浦 治
Applicant, Patent owner： ティーディーケイ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001278829
Publication number (International publication number)：2003086537
Application date： Sep. 13, 2001
Publication date： Mar. 20, 2003
Summary：

【要約】【課題】 簡便、安価な薄膜パターンの製造方法を提供する。【解決手段】 透明な材料により構成され、表面に凹凸形状のパターンが形成された部材を有する構造体により単分子膜パターンを基体に転写する工程を含むことを特徴とする薄膜パターン製造方法であり、透明な材料により構成された構造体を用いることにより構造体を通して基体上のアライメントマークを観察することで正確な位置あわせを行うことができる。また、構造体として、透明な材料により構成され、表面に凹凸形状のパターンが形成された部材と、透明な基板を有する構造体を用いても正確な位置あわせを行うことができる。

Claim (excerpt)：

透明な材料により構成され、表面に凹凸形状のパターンが形成された部材を有する構造体により単分子膜パターンを基体に転写する工程を含むことを特徴とする薄膜パターン製造方法。

F-Term (6)：

5F046AA28 ,  5F046EA02 ,  5F046EA04 ,  5F046EB01 ,  5F046EB02 ,  5F046ED01