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J-GLOBAL ID：200903006444787655

滅菌装置

Inventor： 清水 尚博
Applicant, Patent owner： 日本碍子株式会社
Agent (6)： 三好 秀和 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄 ,  鈴木 壯兵衞 ,  高久 浩一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008066563
Publication number (International publication number)：2008302198
Application date： Mar. 14, 2008
Publication date： Dec. 18, 2008
Summary：

【課題】被処理物の表面に有機物若しくは無機物等のゴミ(付着物質)が付着した場合でも、十分な滅菌が可能な滅菌装置を提供する。【解決手段】被処理物30を収納する滅菌処理室(23,53,54,62)と、滅菌処理室(23,53,54,62)の内部にプラズマを発生させるプラズマ発生手段(11b,12,14)と、水蒸気を導入する水蒸気導入手段(1,71,44,72,45)と、処理ガスを導入する処理ガス導入手段(33,61,41)と、被処理物30に電磁波を照射する電磁波照射手段(2a,43a,42a,41a)とを備える。プラズマ発生手段は、滅菌処理室の内部に配置した第1電極11b及び第2電極12と、第1電極及び第2電極間との間に、デューティ比10-7〜10-1のパルスを印加し、第1電極及び第2電極間に非熱平衡プラズマを生成するパルス電源14とを有する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

被処理物を収納し、該被処理物を囲む密閉空間を構成する滅菌処理室と、 該滅菌処理室の内部にプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、 前記滅菌処理室の内部に水蒸気を導入する水蒸気導入手段と、 前記滅菌処理室の内部に処理ガスを導入する処理ガス導入手段と、 前記滅菌処理室に収納された被処理物に電磁波を照射する電磁波照射手段 とを備え、前記プラズマ発生手段は、 前記滅菌処理室の内部に配置した第1電極及び第2電極と、 前記第1電極及び第2電極間との間に、デューティ比10-7〜10-1のパルスを印加し、前記第1電極及び第2電極間に非熱平衡プラズマを生成するパルス電源とを有し、 前記電磁波と前記非熱平衡プラズマとを、前記被処理物の表面に付着した細菌又は微生物に逐次照射することにより、前記被処理物を滅菌することを特徴とする滅菌装置。

IPC (5)：

A61L 2/14 ,  A61L 2/04 ,  B65B 55/08 ,  A61L 2/20 ,  A61L 2/08

FI (6)：

A61L2/14 ,  A61L2/04 A ,  B65B55/08 Z ,  B65B55/08 B ,  A61L2/20 G ,  A61L2/08

F-Term (12)：

4C052AA10 ,  4C052LL06 ,  4C058AA12 ,  4C058AA14 ,  4C058AA17 ,  4C058AA21 ,  4C058AA25 ,  4C058BB03 ,  4C058BB06 ,  4C058BB09 ,  4C058KK06 ,  4C058KK21

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• プラズマ消毒システム
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2001-568475   Applicant：ヒューマンメディテックコーポレイションリミテッド