Pat
J-GLOBAL ID：200903006447967093
スチレン系重合体および共重合体の製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大谷 保
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992064853
Publication number (International publication number)：1993097927
Application date： Mar. 23, 1992
Publication date： Apr. 20, 1993
Summary：
【要約】【目的】 シンジオタクチック構造を有するアリールスチレン系重合体および共重合体を効率よく製造する方法を開発すること。【構成】 チタン化合物等の遷移金属化合物成分および該遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成する化合物成分を含む触媒を用いて、例えばp-フェニルスチレン等のアリールスチレン系重合体および共重合体を製造する方法である。
Claim (excerpt)：
アリール置換基を有するスチレン系モノマーあるいは該アリール置換基を有するスチレン系モノマーと他のスチレン系モノマーを含有するスチレン系モノマーを、(A)遷移金属化合物および(B)該遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成する化合物を主成分とする触媒の存在下で重合もしくは共重合することを特徴とするシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体もしくはスチレン系共重合体の製造方法。
IPC (6)：
C08F 12/14 MJY
, C08F 4/64 MFH
, C08F 12/14 MJT
, C08F 30/02 MNS
, C08F 30/04 MNT
, C08F 30/08 MNU
