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J-GLOBAL ID:200903006458415920

キナクリドン顔料製造のための酸化方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岡部 正夫 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992221866
Publication number (International publication number):1993230384
Application date: Aug. 21, 1992
Publication date: Sep. 07, 1993
Summary:
【要約】 (修正有)【構成】キナクリドン、キナクリドン誘導体およびキナクリドン固溶体の顔料の製造方法において、(a)該キナクリドンまたはキナクリドン誘導体の6、13-ジヒドロキナクリドン前駆体を高められた温度において、少なくとも2重量%の酸素を含有する気体の有効酸化量、塩基、ジメチルスルホキシド、水および触媒量のキノン触媒の存在下において酸化し、(b)工程(a)において生成したキナクリドン塩の加水分解またはアルコール分解によってキナクリドン顔料を沈殿させ、(c)そのキナクリドン顔料を単離することを特徴とする方法。【効果】上記の方法によって、短い反応時間で高収率で目的キナクリドン顔料を得ることができる。
Claim (excerpt):
キナクリドン、キナクリドン誘導体およびキナクリドン固溶体の顔料の製造方法において、(a)該キナクリドンまたはキナクリドン誘導体の6、13-ジヒドロキナクリドン前駆体を高められた温度において、少なくとも2重量%の酸素を含有する気体の有効酸化量、塩基、ジメチルスルホキシド、水および触媒量のキノン触媒の存在下において酸化し、(b)工程(a)において生成したキナクリドン塩の加水分解またはアルコール分解によってキナクリドン顔料を沈殿させ、そして(c)そのキナクリドン顔料を単離することを特徴とする方法。
IPC (3):
C09B 5/38 ,  C07B 33/00 ,  C07D471/04 112
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開昭54-135821

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