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J-GLOBAL ID：200903006463266305

導電膜パターン化用マスク

Inventor： 岡村 昌紀 ,  小川 正幸 ,  岡本 徹
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000221891
Publication number (International publication number)：2002038254
Application date： Jul. 24, 2000
Publication date： Feb. 06, 2002
Summary：

【要約】【課題】低コストで生産性の優れた、基板へのキズの発生を抑制し、保護膜の剥離を防止することで、液晶表示装置の表示不良発生を防止することができる導電膜パターン化用マスクを提供する。【解決手段】導電膜パターンの形成部分が開口部となっているマスクであって、該マスクを基板に接触させた状態で該マスクの開口部を介して導電膜を成膜して導電膜のパターン化をおこなう導電膜パターン化用マスクにおいて、該マスクの基板と接触する面に凹凸を設けたことを特徴とする導電膜パターン化用マスク。

Claim (excerpt)：

導電膜パターンの形成部分が開口部となっているマスクであって、該マスクを基板に接触させた状態で該マスクの開口部を介して導電膜を成膜して導電膜のパターン化をおこなう導電膜パターン化用マスクにおいて、該マスクの基板と接触する面に凹凸を設けたことを特徴とする導電膜パターン化用マスク。

IPC (2)：

C23C 14/04 ,  C23C 16/04

FI (2)：

C23C 14/04 A ,  C23C 16/04

F-Term (7)：

4K029BC03 ,  4K029BC09 ,  4K029BD00 ,  4K029HA03 ,  4K030BB14 ,  4K030DA05 ,  4K030LA18