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J-GLOBAL ID：200903006492060287

プラズマ洗浄方法及び装置

Inventor： 西野 賢一 ,  馬屋原 潔 ,  伊田 雅之 ,  辻 慎治郎 ,  西本 智隆
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 青山 葆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998290648
Publication number (International publication number)：2000117213
Application date： Oct. 13, 1998
Publication date： Apr. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】 洗浄すべき個所のみを効率的に洗浄することができ、反応ガスを効率良く使用することができるプラズマ洗浄方法及び装置を提供する。【解決手段】 反応ガスと高周波電力をプラズマ照射ノズル1に供給してその先端からプラズマ6を発生させ、上記発生したプラズマを対象物12の洗浄すべき被洗浄部分12aに照射して、照射されたプラズマにより上記被洗浄部分を洗浄する。

Claim (excerpt)：

反応ガスと高周波電力をプラズマ照射ノズル(1)に供給してその先端からプラズマ(6)を発生させ、上記発生したプラズマを対象物(12)の洗浄すべき被洗浄部分(12a)に照射して、照射されたプラズマにより上記被洗浄部分を洗浄するようにしたことを特徴とするプラズマ洗浄方法。

F-Term (10)：

3B116AA46 ,  3B116AB42 ,  3B116BB22 ,  3B116BB32 ,  3B116BB55 ,  3B116BB72 ,  3B116BB75 ,  3B116BB81 ,  3B116BC01 ,  3B116CD11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• ドライ洗浄方法およびその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-347129   Applicant：セイコーエプソン株式会社, 森勇藏
• 表面処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-154741   Applicant：西山ステンレスケミカル株式会社