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J-GLOBAL ID：200903006506790542

水素シルセスキオキサンを用いた塗布剤

Inventor： ローレン アンドリュー ハルスカ ,  キース ウィントン マイケル
Applicant, Patent owner： ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション
Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994036861
Publication number (International publication number)：1994345417
Application date： Mar. 08, 1994
Publication date： Dec. 20, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、サブストレートに塗膜を形成する方法及び塗布したサブストレートに関する。【構成】 この方法は、水素シルセスキオキサン樹脂及び充填剤を含む塗布組成物をサブストレートに塗布し、そして加熱して水素シルセスキオキサンをセラミック塗膜に転換するものである。この方法は、特に電子部品に対して塗膜を形成するのに有用である。

Claim (excerpt)：

水素シルセスキオキサン樹脂及び充填剤を含む塗布組成物をサブストレートに塗布し、そして塗布したサブストレートを50から1000°Cの温度において3時間以下加熱して塗布組成物をセラミック塗膜に変えることを含むサブストレートに塗膜を形成する方法。

IPC (2)：

C01B 33/12 ,  C09D183/05 PMS

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-281511
  
• 特開平4-228415
  
• 特許第442632号