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J-GLOBAL ID：200903006510480353

薄型インダクタ/トランスおよびその製造方法

Inventor： 片山 真吾 ,  谷川 健一
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 田村 弘明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992238700
Publication number (International publication number)：1994089811
Application date： Sep. 07, 1992
Publication date： Mar. 29, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、薄型インダクタ/トランスにおいて、スパイラル状コイルを施したセラミックス基板と軟質磁性酸化物膜の間に、セラミックス・軟質磁性酸化物複合体層を設けることにより、焼成時に、軟質磁性酸化物膜が剥離せず、クラックの発生のない薄型インダクタ/トランスおよびその製造方法を提供する。【構成】 薄型インダクタ/トランスにおいて、セラミックス基板上に、スパイラル状平面コイル、セラミックス・軟質磁性酸化物複合体、軟質磁性酸化物体を積層することから成る。セラミックス・軟質磁性酸化物複合体は、セラミックス/軟質磁性酸化物の混合比が重量比で40〜60%とするのがよい。【効果】 本発明では、焼成時に生じるセラミックス基板と軟質磁性酸化物膜の間の収縮率の差による剥離やクラックを防止することができ、歩留まりを向上できる。

Claim (excerpt)：

セラミックス基板上に、スパイラル状平面コイル、軟質磁性酸化物体を積層することから成る薄型インダクタ/トランスにおいて、スパイラル状平面コイルを施したセラミックス基板と軟質磁性酸化物膜の間に、セラミックス・軟質磁性酸化物複合体層を設けたことを特徴とする薄型インダクタ/トランス。

IPC (4)：

H01F 17/00 ,  H01F 1/34 ,  H01F 27/28 ,  H01F 41/04