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J-GLOBAL ID：200903006511003338

ガスハイドレート製造装置及び多段ガスハイドレート製造装置

Inventor： 渡部 正治 ,  吉川 孝三 ,  江間 晴彦 ,  近藤 雄一 ,  藤田 尚義 ,  木村 隆宏 ,  遠藤 仁 ,  北 吉博
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社
Agent (1)： 藤田 考晴 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000096708
Publication number (International publication number)：2001279279
Application date： Mar. 31, 2000
Publication date： Oct. 10, 2001
Summary：

【要約】【課題】 複数成分のハイドレート形成物質を含むガスを効率よく水和させてガスハイドレートを生成し、運転の安定化を図るとともにコストを抑制した、ガスハイドレート製造装置及び多段ガスハイドレート製造装置を提供する。【解決手段】 ガスハイドレート製造装置3が、ハイドレート形成物質を含むガスを水和させてガスハイドレートを生成する生成容器11と、ガスを生成容器11内に導入するガス導入管路21に配設された制御弁31と、生成容器11内のガス組成を検出し、その組成状態に基づく検出信号を出力するガス組成検出器41と、生成容器11内の圧力を検出し、その圧力状態に基づく検出信号を出力する圧力検出器42と、ガス組成検出器41及び圧力検出器42からの各検出信号に基づき制御弁31を制御し、ガスの生成容器11内への流入量を変化させる制御器43と、を備えるように構成した。

Claim (excerpt)：

ハイドレート形成物質を含むガスを水和させてガスハイドレートを生成する生成容器と、前記ガスを前記生成容器内に導入する管路に配設された制御弁と、前記生成容器内のガス組成を検出し、その組成状態に基づく検出信号を出力するガス組成検出器と、前記生成容器内の圧力を検出し、その圧力状態に基づく検出信号を出力する圧力検出器と、前記ガス組成検出器及び前記圧力検出器からの各検出信号に基づき前記制御弁を制御し、前記ガスの前記反応容器内への流入量を変化させる制御器と、を備えていることを特徴とするガスハイドレート製造装置。

IPC (8)：

C10L 3/06 ,  C07B 61/00 ,  C07B 63/02 ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04 ,  C07C 9/06 ,  C07C 9/08

FI (8)：

C07B 61/00 C ,  C07B 63/02 B ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04 ,  C07C 9/06 ,  C07C 9/08 ,  C10L 3/00 A

F-Term (4)：

4H006AA02 ,  4H006AC93 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11