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J-GLOBAL ID：200903006520027207

反射防止膜の製造方法および反射防止膜

Inventor： 川俣 健 ,  三田村 宣明 ,  池田 浩 ,  徳田 一成 ,  新田 佳樹 ,  豊原 延好 ,  生水 利明
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 奈良 武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994170004
Publication number (International publication number)：1996015502
Application date： Jun. 29, 1994
Publication date： Jan. 19, 1996
Summary：

【要約】【目的】 PVD法により、低屈折率のSiO2 またはAl2 O3 の膜を成膜する。【構成】 マグネトロンスパッタリング装置1は、直流電源2と高周波電源3とを有している。基板ホルダ4を載置するベース5は冷凍機6とつながっており、基板7を冷却できるように構成されている。

Claim (excerpt)：

基板温度を0°C以下に保ちつつPVD法により、屈折率1.44以下のSiO2 膜またはAl2 O3 膜を成膜することを特徴とする反射防止膜の製造方法。